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2012年7月9日-研(yan)磨(mo)紙研(yan)磨(mo)液拋(pao)光(guang)布微粉靜電植砂研(yan)磨(mo)帶(dai)鍍鎳金剛石系列研(yan)磨(mo)工藝研(yan)究開發(fa)前沿技(ji)術(shu)技(ji)術(shu)應用公司新聞展會信息(xi)。

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本發明涉及(ji)經(jing)下述通式(1)、(2)及(ji)(3)表(biao)(biao)示的(de)少1種基團進行過表(biao)(biao)面(mian)(mian)改(gai)(gai)性(xing)的(de)表(biao)(biao)面(mian)(mian)改(gai)(gai)性(xing)膠體二(er)氧(yang)化(hua)硅以(yi)及(ji)含有該表(biao)(biao)面(mian)(mian)改(gai)(gai)性(xing)膠體二(er)氧(yang)化(hua)硅的(de)CMP用(yong)研磨組(zu)合(he)物。根(gen)據上(shang)述本發明,。

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